ÃÖ°íÀÇ ±â¼ú·Â°ú Á¦Ç°À¸·Î º¸´äÇÏ´Â ºñÁö´Ï½º ÆÄÆ®³Ê°¡ µÇ°Ú½À´Ï´Ù.
Clean Room System À¸·Î °¡Àå Ź¿ùÇÑ ¼öÁØÀÇ »ý»ê ȯ°æÀ» Á¶¼ºÇÏ¿©(GMP ±âÁØ Àû¿ë)
°í°´ ´ÏÁî¿¡ ¸ÂÃã »ý»ê, ³³Ç°ÇÏ´Â ODM ¹æ½ÄÀÇ ¼ºñ½º¸¦ °ø±ÞÇØ µå¸³´Ï´Ù.
ƯÀÌÁø¼¼³ë»çÀ̵å:
Compound K, Rg5, Rk1, Rh1, Rh2, Rg3¸¦ Æ÷ÇÔÇÏ´Â ¸ðµç Áø¼¼³ë»çÀ̵å
°Ç°±â´É½ÄÇ°ºÎ¹®:
È«»ïÀÇ 6´ë ±â´ÉÀ» Æ÷ÇÔÇÑ ¸ðµç Á¦ÇüÀÇ °Ç°±â´É½ÄÇ°ÀÇ Á¦Á¶, °ø±ÞÀÌ °¡´ÉÇϸç, ¿Ïº®ÇÑ Ç°Áú°ü¸® ¼ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÕ´Ï´Ù.
´Ù¾çÇÑ ±â´É¼º ¿ø·á¸¦ Äݶóº¸ÇÑ °Ç°±â´É½ÄÇ° °³¹ß ¹× ODM»ý»êÀ» ÃßõÇÕ´Ï´Ù.
È¿¼ÒÈ«»ï¾×»ó(¾×»óÆÄ¿ìÄ¡) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
È¿¼ÒÈ«»ïºÐ¸»(Çϵåĸ½¶) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
¹ßÈ¿È«»ï¾×»ó(¾×»óÆÄ¿ìÄ¡) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
MSM (¾×»ó&ŸÁ¤) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
È«»ï³óÃà¾×»ó(½ºÆ½) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
È«»ó³óÃàºÐ¸»(Çϵåĸ½¶) / °Ç°±â´É½ÄÇ°
Clean Room System À¸·Î °¡Àå Ź¿ùÇÑ ¼öÁØÀÇ »ý»ê ȯ°æÀ» Á¶¼ºÇÏ¿©(GMP ±âÁØ Àû¿ë)
°í°´ ´ÏÁî¿¡ ¸ÂÃã »ý»ê, ³³Ç°ÇÏ´Â ODM ¹æ½ÄÀÇ ¼ºñ½º¸¦ °ø±ÞÇØ µå¸³´Ï´Ù.
±âÃÊÈÀåÇ°·ù :
½ºÅ², ·Î¼Ç, ¿¡¸ÖÀü, Å©¸², ¿¡¼¾½º, ÆÑ, ¸¶½ºÅ©, Ŭ·»Â¡, ³²¼º ÈÀåÇ° µî
º£À̺ñÈÀåÇ° ·ù :
º£À̺ñŬ·»Àú, º£À̺ñ ¹öºí ¹Ù½º, º£À̺ñ ¼¤Çª, º£À̺ñ ·Î¼Ç, º£À̺ñ Å©¸², º£À̺ñ ¿ÀÀÏ µî
Çì¾îÁ¦Ç° ·ù :
¼¤Çª, ¸°½º, º¹ÇÕ Á¦Ç°, Æ®¸®Æ®¸ÕÆ®, Çì¾î Åä´Ð, Çì¾î ¿¡¼¾½º, Çì¾î Å©¸², Çì¾î ·Î¼Ç µî
¹ÙµðÁ¦Ç° ·ù :
¹ÙµðŬ·»Àú, ¹öºí¹Ù½º, ¹Ùµð ·Î¼Ç, ¹Ùµð ½ºÇÁ·¹ÀÌ, ¹Ùµð ¿ÀÀÏ, ¹Ùµð Ŭ¸®´Ð, ÇÚµå Äɾî, Dz Äɾî, ¸Å´ÏÅ¥¾î, Æäµð Å¥¾î µî
±â´É¼ºÈÀåÇ° ·ù :
ÁÖ¸§ °³¼±, ¹Ì¹é, Àڿܼ± Â÷´Ü, Å´×, º¹ÇÕ ±â´É¼º ÈÀåÇ° µî
¸¶½ºÅ©ÆÑ ·ù :
¸¶½ºÅ© ½ÃÆ®, ÆÄ¿ìÄ¡ µî
Å©¸²
½ºÅ²Åä³Ê
¿¡¸ÖÀü
¼¼·³
Å©¸²
¼¼Æ®
Clean Room System À¸·Î °¡Àå Ź¿ùÇÑ ¼öÁØÀÇ »ý»ê ȯ°æÀ» Á¶¼ºÇÏ¿© (GMP ±âÁØ Àû¿ë)
°í°´ ´ÏÁî¿¡ ¸ÂÃã »ý»ê, ³³Ç°ÇÏ´Â ODM ¹æ½ÄÀÇ ¼ºñ½º¸¦ °ø±ÞÇØ µå¸³´Ï´Ù.
Original Development & Design Manufacturing
»óÇ°ÀÇ ±âȹ, °³¹ß, »ý»ê, Ç°Áú°ü¸® ¹× ÃâÇϱîÁöÀÇ Àü °úÁ¤¿¡ ´ëÇÑ ¼ºñ½º¸¦ Á¦°øÇÏ´Â ÀÚü °³¹ß ÁÖ¹® »ý»ê ¹æ½ÄÀÔ´Ï´Ù.
¡¤ Æó¾ÏÄ¡·áÁ¦(ºñ¼Ò¼¼Æ÷¾Ï)
¡¤ Ç×¾Ï º¸Á¶Á¦
¡¤ ¾Ë·¯Áö / ¾ÆÅäÇÇÄ¡·áÁ¦
¡¤ ¼º±â´É °³¼±
¡¤ Ç× ´ç´¢Á¦